更新日： 集計期間:2025年04月02日～2025年04月29日
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ウエハサイズ 後工程 投影露光装置 MRS 標準光源としてUV-LED光源を採用（生産性を落さずランニングコスト削減が可能！）
■ ８インチ以下は「一括露光方式」、 12インチは「ステップ＆リピート露光方式」の選択が可能 ■ 露光エリアが広い為、高生産性を実現 ■ 焦点深度が深い為、MEMS、RFフィルター業界に多数の 実績あり ■ TAIKOウエハにも対応 ■ グローバルアライメント方式 ■ 高剛性フレームにより、高精度アライメント露光が実現 ■ フォーカスマップ機構標準装備
解像力とアライメント精度を高め、量産プロセスに対応可能。UV-LED光源を採用し、ランニングコストを低減します
『CMS（Cerma Micro Stepper）-Ck』は、650×550mmの フルサイズ基板に対応した、微細パターン露光が可能な投影露光装置です。 標準光源として、UV-LED光源を採用。 解像力（L/S）が2μmのインターポーザーをはじめ、 高精細・高精度・高生産性を要求される用途に適しています。 【特長】 ■L/S＝1.4/1.4μmからの量産プロセスに対応 ■ダイバイダイアライメント＆グローバルアライメント方式 ■チップファースト工程にも対応可能 ■ショット毎チルト機構搭載により歩留まり向上 ※詳しくは資料をご覧ください。また、当社では製品を実際に評価いただける クリーンルームも完備。デモをご希望の方はお気軽にご連絡ください。 （ラミネート・塗布、現像の周辺プロセスを含めて対応可能です）
小型、低消費電力、長寿命の紫外線LED露光ランプです。
基本は弊社が販売しておりますメタルフォト用の露光ランプです。 今まではキセノンランプ、メタルハライドランプ、水銀灯など 高出力のランプを使っておりましたが、最近はやりのLED光を採用し、 自社設計開発しました紫外線LED露光ランプです。 【特長】 ■高さ調整のアーム付き、デジタルタイマー付き ■アームからLED部分が取り外し可能で220gと軽量 ■カタログにありますバキュームテーブルも自社設計製品 ■メタルフォトに限らず波長と出力があえば他のものにも利用可能 ■自社設計のため、光源を変えたり、サイズ変更などカスタマイズ可能
コンパクトな設計のマニュアル式オートアライメント露光装置(マスクアライナ）です。
【主な特長】 ・多品種・小ロット生産や実験・研究に最適なマニュアル一括露光装置 ・高精度オートアライメントおよび裏面アライメント機能を搭載。 ・割れ基板へのオートアライメントが可能。 ・フットプリントを縮小化することで省スペースを実現。 ・UV-LED光源搭載可能 ・レシピ管理機能 ・バーコードリーダーを用いたオペレータ補助とLOG保存。
全自動タイプ(2～12inch 及び 角型等)ウェハー露光装置
概要 高精細露光に最適化た独自UV光学系とフォトマスクとウエハを高精度に平行出しできるメカニズムを採用 バキュームコンタクト，ソフトコンタクト，プロキシミティー迄対応した全自動露光装置 特注対応可能
簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。オートアライメント機能搭載のオートマスクアライナ―。オーダーメイドも可能！
当製品は、オート一括等倍露光マスクアライメント装置です。 フォトマスクとウエハを完全非接触で自動平行調整を行います。 超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。 ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 【特長】 ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産にも好適 ■超精密UVWステージ搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ベルト搬送方式によるウエハ表面、裏面を同時に露光可能な装置です。 fast露光モード、アライメント露光モードを設定可能。
当製品は、半自動両面同時露光装置です。 ウエハキャリアからの取り出し、搬入をベルト方式に行います。 マスクとウエハはコンタクトし、同時に露光を行います。 アライメントなしのfast露光モード、 ウエハとマスクのアライメントを主導で行うアライメント露光モードを レシピで選択。 ベルト搬送方式の特徴を生かし、fast露光モードは高タクトで処理が可能。 上下マスクの位置合わせ、マスク―ウエハの位置合わせはI.Fを同一とし 操作が煩雑になる事がありません。 また、マスクの交換も簡単に行えます。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 【特長】 ■両面同時露光 ■fast露光モード、アライメント露光モード ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産にも好適 ■ベルト搬送方式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。搬送系が無い低価格手動マスクアライナー。
当製品は、手動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 基板を露光ステージにセットし、露光を行う装置です。 ウエハを露光ステージへ手動でセッティング。 面倒なフォトマスクとウエハの平行調整やギャップ調整は自動で行います。 また，超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。 ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 基板が特殊等のオーダーメイドも承ります。 【特長】 ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能搭載 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■多品種少量生産、研究、開発用途に好適 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現 ■超精密UVWステージ搭載 ■特殊基板等のオーダーメイド可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理。搬送ユニット搭載の半自動マスクアライナー。
当製品は、半自動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 基板を1枚毎にセットし、 基板セット後，搬送～露光を自動で行う装置です。 フォトマスクとウエハを完全非接触で自動平行調整を行います。 従来の手動でギャップ調整を行うという煩雑な作業が一切不要です． また，超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。 ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 基板が特殊等のオーダーメイドも承ります。 【特長】 ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能搭載 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■多品種少量生産、研究、開発用途に好適 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現 ■超精密UVWステージ搭載 ■特殊基板等のオーダーメイド可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
サイズ切替が容易なウエハ2サイズ兼用オートマスクアライナー。簡単設定、自動平行調整、完全非接触ギャップ管理、オートアライメント。
当製品は、オート一括等倍露光マスクアライメント装置です。 φ3、4インチ φ4、６インチなどの2サイズのウエハが兼用可能です。 切替作業は、非常に簡単。3つの部品を交換するだけでOK。 搬送ロボットの微調整など一切不要です。 更にフォトマスクとウエハを完全非接触で自動平行調整を行い、 製造工程における段取り替え時間を大幅に削減可能です。 超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントを正確に行います。 ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 【特長】 ■複数基板サイズ対応 ■段取り替えが容易 ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産にも好適 ■超精密UVWステージ搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
